XRS-DC-100H 提拉涂膜機

一. 產品應用
本產品主要用于溶膠-凝膠法等液相法制備薄膜材料。把潔凈干燥的基片浸入溶液（溶膠）中，通過預先設置的參數，將浸漬后的基片以一定速度垂直提拉起來。在基片上附著一層膜，稱為 “濕凝膠膜”，隨著“濕凝膠膜”膜層中溶劑的揮發，膜層在基片上固化成為“干凝膠膜”。“干凝膠膜”經過進一步的干燥及高溫熱處理便得到所需的納米薄膜材料。
二. 產品簡介
浸漬提拉鍍膜機是專門為液相（特別是sol-gel法）制備薄膜材料的研究工作而設計，對不同液體通過浸漬提拉生長薄膜。提拉速度、提拉高度、浸漬時間、鍍膜次數（多次多層鍍膜）、鍍膜間隔時間均連續可調、精密控制。對鍍膜基質無特殊要求，片狀、塊狀、圓柱狀等均可鍍膜。運行穩定、工作時液面無振動，可極大提高實驗精度與實驗效率。
適用于硅片、玻璃、陶瓷、金屬等固體材料表面涂覆工藝。應用于科學研究、產品生產。
三. 產品特點
1. 采用自主設計的先進的精密傳動裝置；
2. 提拉機構、程控系統來自中國臺灣及日本進口，確保運行精度及穩定性；
3. 多參數全自動控制；提拉速度連續可調；
4. 鍍膜過程采用4.3寸液晶觸摸屏使控制更方便；恒溫場溫度LCD液晶顯示可編程控溫，。
5. 運行時，各項參數實時顯示，更直觀了解鍍膜進程；
6. 高、低速均運行平穩，鍍膜時液面無振動，使成膜更均勻；
7. 整個鍍膜過程在恒溫溫度場內進行，可精密控溫，溫度均勻性好。
8. 特殊設計的平口型夾具，兩面均勻夾持樣片，不會夾壞樣片；
四. 技術參數
1. 提拉速度范圍：1～5000 μm/s，最小分辨率1μm/s；
2. 適用基片尺寸：MIN 5×5 mm，MAX 100×100 mm，厚度MAX 10mm；
3. 浸漬時間：1～1200 s，最小分辨率1s；
4. 鍍膜次數：1～100次，最少1次；
5. 每次鍍膜間隔時間：1～3600 s，最小分辨率1s；
6. 恒溫溫度：RT+10～200℃,溫度分辨率0.1℃；
7. 溫度波動度≤±0.2℃；
8. 恒溫場內尺寸：340×320×320 mm（W×D×H）；
9. 電源：220V/50Hz