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實驗室三靶磁控濺射鍍膜儀

Name: 實驗室三靶磁控濺射鍍膜儀
SKU: KS-MSC-300*350
Price: 350000 CNY
Availability: InStock

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參考價: ￥ 350000

訂貨量: ≥1 件

具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號KS-MSC-300*350

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廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所在地鄭州市

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更新時間：2026-01-15 16:17:10瀏覽次數(shù)：177次

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鄭州科爍儀器設備有限公司

經(jīng)營模式：生產(chǎn)廠家

商鋪產(chǎn)品：12條

所在地區(qū)：河南鄭州市

聯(lián)系人：胡女士（銷售經(jīng)理）

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產(chǎn)品簡介

產(chǎn)地	國產(chǎn)	加工定制	是
適用領域	科研

三靶磁控濺射鍍膜儀以三靶協(xié)同濺射技術為核心，在高真空環(huán)境中構(gòu)建精準可控的等離子體沉積系統(tǒng)。其創(chuàng)新原理在于通過 100～1000Gauss 強力磁場約束電子運動軌跡，使氬氣等離子體高效轟擊三個獨立靶材，釋放的離子經(jīng)電場加速后均勻沉積于基底表面。相較于單靶設備，該技術突破性解決了涂層成分固定、調(diào)控困難的痛點 —— 通過 PLC 系統(tǒng)精確控制各靶的濺射功率、頻率

詳細介紹

1. 多維參數(shù)可控

設備采用相位可控的高功率脈沖技術，不僅使靶材離化率提升 3 倍以上，更能通過調(diào)節(jié)離子能量（0V~1000V 偏壓）與入射角度，精準控制薄膜晶體結(jié)構(gòu)、界面結(jié)合力與致密性。搭配 **≤1×10?2Pa 高真空本底 ** 與室溫 - 800℃可調(diào)基底加熱系統(tǒng)，可制備出無針孔、晶粒均勻的高性能薄膜，膜厚均勻性誤差控制在 ±3% 以內(nèi)。

2. 三靶靈活配置，研發(fā)效率倍增

集成三個標準靶位（標配Ф50mm Au/Ag/Pt 貴金屬靶，支持異質(zhì)靶材定制），無需破真空即可快速切換沉積模式：既能依次濺射形成多層功能膜，也能共濺射制備成分漸變的復合材料。例如在光電材料研發(fā)中，可通過調(diào)節(jié) Ti、Si、N 靶功率比，實現(xiàn) TiSiN 抗氧化薄膜的性能優(yōu)化，較傳統(tǒng)單靶方案縮短研發(fā)周期 60%。

3. 智能系統(tǒng)加持，操作安全可靠

搭載全自動 PLC 控制系統(tǒng)與循環(huán)水冷系統(tǒng)，可一鍵完成預濺射（3min~30min）、沉積等流程，實時監(jiān)控真空度、氣體流量（5Sccm~100Sccm）等關鍵參數(shù)。設備采用閉合磁場設計減少電子損耗，配合脈沖電源抑制電弧放電，確保 300 小時以上穩(wěn)定運行，極大降低薄膜缺陷率。

三、全場景覆蓋：賦能多學科創(chuàng)新研究

?? 新材料研發(fā)

可制備納米功能薄膜、催化材料與傳感器敏感層，在高熵合金涂層研究中，通過三靶共濺射實現(xiàn) 5 種以上元素的精準配比，突破單靶成分調(diào)控局限。

?? 微納電子與光學

用于半導體器件電極制備、ITO 透明導電膜及光學濾光片研發(fā)，憑借低缺陷沉積技術，使器件擊穿電壓提升 40%，光學透過率達 95% 以上。

?? 生物醫(yī)學領域

定制抗菌涂層與生物傳感器界面，通過 Ag 靶與陶瓷靶協(xié)同沉積，實現(xiàn)薄膜生物相容性與抗菌性的優(yōu)化平衡。

?? 教學與科研

適配物理、材料等學科實驗教學，直觀展示磁控濺射原理，同時滿足前沿課題需求，如非平衡磁場調(diào)控下的多孔薄膜制備。

四、設備價值：實驗室的創(chuàng)新基石

作為國產(chǎn)鍍膜設備代表，三靶磁控濺射鍍膜儀以 “精準調(diào)控 + 高效靈活" 的核心優(yōu)勢，打破進口設備技術壟斷。其緊湊設計適配實驗室場景，定制化樣品臺可滿足不同基底尺寸需求，從基礎研究到中試開發(fā)賦能，助力科研人員加速實現(xiàn)技術突破與成果轉(zhuǎn)化。

關鍵詞：標準脈沖電源控制系統(tǒng)