多靶反應濺射鍍膜系統（用于單層膜/多層膜制備）

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更新時間2026-06-02

上海續波光電技術有限公司

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上海續波光電技術有限公司是一家專業從事高性能薄膜沉積及處理設備、光電材料、光學軟件等產品進口的技術貿易服務型公司，公司至今已與歐美、日本等國家的十余家企業建立了戰略合作關系；目前服務于國內從事微電子、半導體、光學、納米技術等領域的研究所和大學。主要產品包括：濺射、蒸發鍍膜儀、離子減薄儀、刻蝕機、等離子處理設備、CVD金剛石沉積設備、激光輔助化學束沉積設備，紅外窗口材料、各種功能CVD金剛石產品，光學設計、激光仿真、BSDF/BRDF測量儀、電磁場模擬仿真及測量儀器等模擬設計軟件等。

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產品簡介在線詢價

關鍵詞：單層膜、多層膜、半導體、光電子學、光子學、微機電系統、MEMS、微流體技術、磁性膜、光學膜、金屬膜、絕緣膜、半導體膜、共濺射連續沉積、進口磁控濺射、SiO2、ZrO2、TiO2、DC靶、RF靶型號：MP600S，產地：歐洲，應用：制備單層/多層金屬薄膜

多靶反應濺射鍍膜系統（用于單層膜/多層膜制備）產品詳情

關鍵詞：單層膜、多層膜、半導體、光電子學、光子學、微機電系統、MEMS、微流體技術、

磁性膜、光學膜、金屬膜、絕緣膜、半導體膜、共濺射

連續沉積、進口磁控濺射、SiO2、ZrO2、TiO2、DC靶、RF靶

型號：MP600S，產地：歐洲，應用：制備單層/多層金屬薄膜。

多靶反應磁控濺射鍍膜儀是微米納米器件制備的設備，可用于制備單層/多層金屬薄膜等，適用于半導體，光電子學，光子學，微機電系統（MEMS）和微流體技術等領域。

反應腔體：內徑為600mm，高度300mm，采用電化學拋光不銹鋼

真空系統：采用1500 l/s低溫泵+15m³/h 干泵

采用薄膜真空計、潘寧/皮拉尼真空計

襯底尺寸：可加載4英寸襯底

采用電阻加熱可達500℃

采用K型熱電偶測溫

磁控陰極：四個6英寸磁控陰極，

與樣品臺的距離手動可調（7-15cm）

每個陰極配備一個圓柱形擋板，防止污染

每個陰極配備一個電氣閥

每個陰極都可以是直流或射頻模式

陰極電源：一個300W 13.56MHz射頻電源（可以升級到2kW）

射頻轉換開關可用于濺射或襯底清洗

一個2kW 直流電源

偏置電壓：10V-300V可調

反應氣路：分別為Ar、N2、O2氣路，每個氣路配備MFC

Load Lock：采用Al合金腔體，手動樣品傳動臂。

采用主腔體干泵抽氣

控制系統：全自動控制，半自動和手動模式可用

支持多級用戶權限設置和管理

支持設備遠程操作、監控、診斷和維護

系統自動報警及定位故障

若對我們的設備感興趣，歡迎聯系我們！

關鍵詞：直流電源控制系統

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