鍍膜機(jī)

摘要NSC-3000（A）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)：臺(tái)式自動(dòng)系統(tǒng)，帶有水冷或者加熱（可加熱到700度）功能，可達(dá)6“旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)10-7 Torr，15分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6 Torr的真空。通過調(diào)整磁控管與基片之間的距離...

摘要NSC-3500（A）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)：立式自動(dòng)系統(tǒng)，帶有水冷或者加熱（可加熱到700度）功能，可達(dá)6“旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，支持到4個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)10-7 Torr，15分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6 Torr的真空。通過調(diào)整磁控管與基片之間的距離...

摘要NSC-4000（A）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)：立式自動(dòng)系統(tǒng)，帶有水冷或者加熱（Z高可加熱到700度）功能，Z大到6“旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，Z大可支持到4個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)10-7 Torr，15分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6 Torr的真空。通過調(diào)整磁控管與基...

摘要NEE-4000（A）全自動(dòng)電子束蒸發(fā)系統(tǒng)：NEE-4000電子束蒸發(fā)系統(tǒng)為雙腔配置，樣品臺(tái)位于主腔體，二級(jí)腔體則用于安置電子束源。兩腔體之間的門閥作為預(yù)真空鎖，使得電子束源腔體保持真空的情況下，通過主腔放入基片到樣平臺(tái)（或夾具）上或從中取出。自動(dòng)裝/卸載基片可通過第...

摘要NTE-3500（A）全自動(dòng)熱蒸發(fā)系統(tǒng)：全自動(dòng)立式熱蒸發(fā)系統(tǒng)，在有機(jī)物和金屬沉積方面具有廣泛的應(yīng)用。設(shè)備具有占地面積小、干凈、均勻、可控及可重復(fù)的工藝特點(diǎn)。具有低價(jià)格, 高性能以及高能力的特點(diǎn)，可滿足于客戶研發(fā)及小規(guī)模生產(chǎn)的應(yīng)用要求，該系統(tǒng)可以在設(shè)定的RMS電流下，或...

摘要NTE-4000（A）全自動(dòng)熱蒸發(fā)系統(tǒng)：全自動(dòng)立式熱蒸發(fā)系統(tǒng)，在有機(jī)物和金屬沉積方面具有廣泛的應(yīng)用。設(shè)備具有占地面積小、干凈、均勻、可控及可重復(fù)的工藝特點(diǎn)。具有低價(jià)格, 高性能以及高能力的特點(diǎn)，可滿足于客戶研發(fā)及小規(guī)模生產(chǎn)的應(yīng)用要求，該系統(tǒng)可以在設(shè)定的RMS電流下，或...

摘要NTE-4000（M）熱蒸發(fā)系統(tǒng)：NTE-4000是PC控制的立式熱蒸發(fā)系統(tǒng)，在有機(jī)物和金屬沉積方面具有廣泛的應(yīng)用。設(shè)備具有占地面積小、干凈、均勻、可控及可重復(fù)的工藝特點(diǎn)。具有低價(jià)格, 高性能以及高能力的特點(diǎn)，可滿足于客戶研發(fā)及小規(guī)模生產(chǎn)的應(yīng)用要求，該系統(tǒng)可以在設(shè)定的...

摘要 NANO-MASTER NOC-4000進(jìn)口光學(xué)鍍膜機(jī)提供*的技術(shù)，在一個(gè)腔體中實(shí)現(xiàn)原子級(jí)清洗和光學(xué)樣片拋光，然后把樣片傳送到第二級(jí)腔體中對(duì)同一樣片進(jìn)行表面涂覆，整個(gè)過程不間斷真空。系統(tǒng)的設(shè)計(jì)也可以支持其中任一個(gè)腔體的單獨(dú)使用，同時(shí)具備各自的自動(dòng)上/下載片功能。

摘要 我們采用以下手段，可以制備各種膜！電子束蒸鍍（E-beamevaporation）：-可以蒸鍍各種金屬、非金屬材料磁控濺射鍍膜（MagnetronSputtering）：-制備各種金屬、非金屬薄膜

摘要 關(guān)鍵詞：金屬薄膜，氮化鋁、壓電薄膜、AlN、Si3N4薄膜、MEMSTiN薄膜，抗腐蝕硬質(zhì)膜，半導(dǎo)體薄膜，氧化物絕緣層型號(hào)：MP450S，產(chǎn)地：歐洲，應(yīng)用：沉積硬質(zhì)膜，半導(dǎo)體膜，氧化物絕緣層等

摘要 關(guān)鍵詞：單層膜、多層膜、半導(dǎo)體、光電子學(xué)、光子學(xué)、微機(jī)電系統(tǒng)、MEMS、微流體技術(shù)、磁性膜、光學(xué)膜、金屬膜、絕緣膜、半導(dǎo)體膜、共濺射連續(xù)沉積、進(jìn)口磁控濺射、SiO2、ZrO2、TiO2、DC靶、RF靶型號(hào)：MP600S，產(chǎn)地：歐洲，應(yīng)用：制備單層/多層金屬薄膜

摘要 關(guān)鍵詞：鍍膜、金屬膜、Al,Ti,Cr,Ni,Cu,Au,Nb,W,Pd,Pt,Mo可在導(dǎo)體或絕緣體上濺射任何薄膜氣路：Ar氣路配搭MFC陰極：3個(gè)4英寸直流磁控管

摘要 關(guān)鍵詞：單層膜、多層膜、磁性膜、光學(xué)膜、金屬膜、絕緣膜、半導(dǎo)體膜連續(xù)沉積、進(jìn)口磁控濺射、SiO2、ZrO2、TiO2、DC靶、RF靶型號(hào)：MP900S產(chǎn)地：歐洲應(yīng)用：單層膜、多層膜、磁性膜配置多個(gè)可更換金屬靶：Ni

摘要關(guān)鍵詞：單層膜、多層膜、半導(dǎo)體、光電子學(xué)、光子學(xué)、微機(jī)電系統(tǒng)、MEMS、微流體技術(shù)、磁性膜、光學(xué)膜、金屬膜、絕緣膜、半導(dǎo)體膜、共濺射連續(xù)沉積、進(jìn)口磁控濺射、SiO2、ZrO2、TiO2、DC靶、RF靶型號(hào)：MP500S，產(chǎn)地：歐洲，應(yīng)用：沉積AlN、Si3N4，TiN...

摘要 參數(shù)電源：220V功率：50W提拉速度：1mm/min-200mm/min速度穩(wěn)定性：±0.05%樣件尺寸：75mm×25mm×2.5mm

摘要 蒸發(fā)鍍膜儀

摘要 AFA-II自動(dòng)涂膜機(jī)AFA-II自動(dòng)涂膜機(jī)是為了使試驗(yàn)人員能方便地在不同底材上涂布出精確的涂膜，減小或消除由于涂布速度及施加壓力不同等人為因素造成的誤差

摘要 一、概述：AFA系列自動(dòng)涂膜機(jī)采用電動(dòng)推桿實(shí)現(xiàn)濕膜制備器或線棒的涂布運(yùn)動(dòng)，有效避免手工涂布的不穩(wěn)定性

摘要 Sheen線棒涂膜機(jī)由不銹鋼制成，可以用于涂料、油墨、粘合劑等的涂膜制備。

摘要 VTC-300USS超聲霧化旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)可以精確控制溶液化學(xué)計(jì)量比、霧粒噴出速度、霧粒大小等參數(shù)

摘要二、產(chǎn)品簡介 浸漬提拉鍍膜機(jī)是專門為液相（特別是sol-gel法）制備薄膜材料的研究工作而設(shè)計(jì)，對(duì)不同液體通過浸漬提拉生長薄膜。提拉速度、提拉高度、浸漬時(shí)間、鍍膜次數(shù)（多次多層鍍膜）、鍍膜間隔時(shí)間均連續(xù)可調(diào)、精密控制。對(duì)鍍膜基質(zhì)無特殊要求，片狀、塊狀、圓柱狀等均...

摘要一. 產(chǎn)品應(yīng)用 本產(chǎn)品主要用于溶膠-凝膠法等液相法制備薄膜材料。把潔凈干燥的基片浸入溶液中，通過預(yù)先設(shè)置的浸漬時(shí)間、提拉速度、提拉高度、鍍膜次數(shù)等參數(shù)，將浸漬后的基片以一定速度慢慢提拉起來，在基片的表面形成一層納米級(jí)的薄膜。膜層厚度由提拉速度，液體濃度和液體粘度...

摘要 技術(shù)參數(shù)：AFA-II自動(dòng)涂膜機(jī)是為了使試驗(yàn)人員能方便地在不同底材上涂布出精確的涂膜，減小或消除由于涂布速度及施加壓力不同等人為因素造成的誤差

摘要全自動(dòng)熱蒸發(fā)鍍碳儀蒸碳儀噴碳儀鍍膜儀 優(yōu)勢看得見：1. 7英寸彩色觸摸屏，全數(shù)字顯示，直觀清晰；2. 具備脈沖加熱和連續(xù)加熱兩種工作模式，適用各種不同的樣品；3. 自動(dòng)檢測每根碳繩的狀態(tài)，并在鍍膜過程中自動(dòng)切換；4. 每根碳繩使用前會(huì)進(jìn)行自動(dòng)除氣，確保碳膜的純...

摘要LBT自動(dòng)涂膜機(jī)參數(shù)：△總功率：350W 電源： 220V 50Hz。△真空吸盤涂布尺寸：300 mm × 200 mm。△涂布長度：300 mm。△涂布速度：0 ～ 10 cm/s 無級(jí)變速。△外形尺寸：705×505×270 mm （長×寬×高）。△重 量：約65...

摘要 LBT自動(dòng)涂膜機(jī)總功率：350W 電源： 220V 50Hz。△真空吸盤涂布尺寸：300 mm × 200 mm。△涂布長度：300 mm。△涂布速度：0 ～ 10 cm/s 無級(jí)變速。△外形尺寸：705×505×270 mm （長×寬×高）。△重 量：約65Kg。

摘要 夾具自動(dòng)涂膜機(jī)JFA-II夾具涂膜機(jī)JFA-II夾具涂膜機(jī)是為了使操作者方便地在不同底材上涂布出準(zhǔn)確的濕膜而精心設(shè)計(jì)的，大大提高了涂膜的重現(xiàn)性

摘要 AFA-II 自動(dòng)涂膜機(jī)AFA-II 自動(dòng)涂膜機(jī)是為了使試驗(yàn)人員能方便地在不同底材上涂布出準(zhǔn)確的涂膜，減小或消除由于涂布速度及施加壓力不同等人...

摘要 易高Elcometer4340電動(dòng)/自動(dòng)涂膜機(jī)詳細(xì)介紹· · 規(guī)格參數(shù)· 曬單評(píng)價(jià)· 購買咨詢· 走進(jìn)南北潮· 參數(shù)選型· 選型· 行業(yè)選型· 報(bào)價(jià)單elcometer 4340自動(dòng)涂膜機(jī)是制備油漆、清漆、化妝品、膠水等眾多類型產(chǎn)品樣本的所需裝置

摘要 產(chǎn)品介紹AT-TB-1100涂膜機(jī)由山東安尼麥特儀器有限公司精心研制，適用于膠水，硅油，UV，油墨，高分子材料等粘度低流淌性好的涂布液在紙張，薄膜，銅箔，鋁箔，無紡布等基材上涂布打樣

摘要 產(chǎn)品介紹AT-TB-1101刮刀式涂布試驗(yàn)機(jī)由山東安尼麥特儀器有限公司精心研制，適用于巴布劑，熱熔膠，凝膠，膏藥等粘度大涂布厚度較高的涂布液在紙張，薄膜，銅箔，鋁箔，無紡布等基材上涂布打樣

摘要 產(chǎn)品介紹AT-TB-1122真空吸附涂膜試驗(yàn)機(jī)由山東安尼麥特儀器有限公司精心研制的，適用于平整度好有一定應(yīng)力的基材的固定與涂布

摘要 自動(dòng)涂膜機(jī)

摘要 微型自動(dòng)涂膜機(jī)

摘要 原理介紹：通過線棒與底膜之間的涂膠間隙控制涂層厚度，基材經(jīng)過此間隙，涂料直接倒至基材上，線棒在一定壓力下電動(dòng)均速走過基材，即可獲得均勻的涂層面

摘要 原理介紹：通過線棒與底膜之間的涂膠間隙控制涂層厚度，基材經(jīng)過此間隙，涂料直接倒至基材上，線棒在一定壓力下電動(dòng)均速走過基材，即可獲得均勻的涂層面

摘要 原理介紹：通過線棒與底膜之間的涂膠間隙控制涂層厚度，基材經(jīng)過此間隙，涂料直接倒至基材上，線棒在一定壓力下電動(dòng)均速走過基材，即可獲得均勻的涂層面

摘要 原理介紹：通過刮刀輥與底輥之間的涂膠間隙控制涂層厚度，基材經(jīng)過此間隙，涂料直接倒到料槽擋塊上，用手拉動(dòng)基材，即可獲得均勻的涂層面

摘要 原理介紹：通過線棒與底膜之間的涂膠間隙控制涂層厚度，基材經(jīng)過此間隙，涂料直接倒至基材上，線棒在一定壓力下電動(dòng)均速走過基材，即可獲得均勻的涂層面

摘要 原理介紹：通過線棒與底膜之間的涂膠間隙控制涂層厚度，基材經(jīng)過此間隙，涂料直接倒至材料上，線棒電動(dòng)走過基材，即可獲得均勻的涂層面

摘要 原理介紹：通過刮刀輥與底輥之間的涂膠間隙控制涂層厚度，基材經(jīng)過此間隙，涂料直接倒到料槽擋塊上，用手拉動(dòng)基材，即可獲得均勻的涂層面

摘要 原理介紹：通過線棒與底膜之間的涂膠間隙控制涂層厚度，基材經(jīng)過此間隙，涂料直接倒至基材上，線棒在一定壓力下電動(dòng)均速走過基材，即可獲得均勻的涂層面

摘要 原理介紹：通過刮刀輥與底輥之間的涂膠間隙控制涂層厚度，基材經(jīng)過此間隙，涂料加熱溶解攪拌后直接倒到料槽擋塊上，用手拉動(dòng)基材，即可獲得均勻的涂層面

摘要 寬范圍無級(jí)調(diào)速：10~999mm/min 高精度直線導(dǎo)桿+直流無刷電機(jī)，使涂膜速度更平穩(wěn) 真空泵外置，避免了傳統(tǒng)機(jī)器（真空泵內(nèi)置）結(jié)構(gòu)在涂膜時(shí)產(chǎn)生的抖動(dòng)

摘要 原理介紹：通過線棒與底膜之間的涂膠間隙控制涂層厚度，基材經(jīng)過此間隙，涂料直接倒至基材上，線棒在一定壓力下電動(dòng)均速走過基材，即可獲得均勻的涂層面